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    反正其中关键要点就是：顾辙要想办法做出能让plga和pva材质层都足够薄的熔喷层，而且要降低反复堆叠熔喷的成本，解决其中很多工艺问题。

    把材料喷薄，不是外行人想想那么容易的，这里面有很多难点。

    比如目前的喷嘴系统，就算把喷丝喷得再细，也无法直接确保喷出来的布层够薄——丝细只是布薄的必要条件，而非充要条件。

    另一个关键的必要条件，是对喷丝飘动轨迹的精确控制。因为丝越细，被喷出来的时候就容易乱飘。

    就算喷射气流很强劲，也无法很精确地控制喷丝的走向，这涉及到极为复杂的空气动力学和流体动力学，而且喷射气流也不能无限加强，否则喷丝就被吹断了。

    当要喷0.1毫米厚的布层时，喷丝小范围乱飘也没什么关系，因为宏观上来说，只要量够大，这些随机误差是可以相互抵消的——

    就好比光子双缝实验和光栅实验时，你没法从量子层面确定每一个光量子最后通过双缝射到哪儿，但只要光子够多，最后肯定会形成干涉条纹。

    量越大，宏观分布越符合概率规律，这是众所周知的。而量变小了之后，偶然性误差就会凸显。

    所以一旦单层厚度降低到微米级，你随便乱喷就会出现有的地方厚。有的地方薄、有的地方甚至完全没有覆盖到的情况，质量控制也就无从谈起。

    而这个问题，眼下如果没有顾辙亲自插手，其他同行几乎也是不可能解决的。

    顾辙对此却是早有准备。他为此把手下搞化学沉积法的金灿也带来了，还有好几个研究生，在顾辙的方向指点下，开始搞专门用于分别收集plga或者pva轻薄喷层的掩膜材料。谷軡

    正常的熔喷环节，对于接收成品的滚筒、凝结网帘，要求是很低的，只要滚筒或网帘的材料不会粘住要生产的热熔布料，而且内部足够通入冷却水、让热熔材料一喷到冷却筒表面就瞬间冷凝，就行了。

    而顾辙对现在所要用到的收集掩膜的要求，却额外加了两道：

    他需要确保收集疏水的plga喷层的掩膜，本身足够亲油疏水，一旦热熔plga喷过来的时候，能够用油性吸附力把原本“堆叠不平”的plga尽量拉平、摊平。

    同理，收集亲水的pva喷层的掩膜，则要反其道而行之，足够亲水疏油，用水性表面特性把“堆叠不平”的pva尽量拉平。

    这样一来，靠着搜集膜的特定材质，可以进一步把微厚熔喷的厚度误差，额外再拉平一个数量级。

    而且，因为单一熔喷层太薄，材料结构强度太低，在堆叠起来之前，这些单层材料是没法直接滚筒搜集起来的，得跟着掩膜一起卷起来。

    所以顾辙最后还得考虑掩膜如何回收的问题，最好的办法思路当然是“掩膜本身的熔点，最好比plga和pva还低得多。

    这样多层plga和pva和掩膜都叠到一起之后，可以稍稍加热、就在plga和pva不再次融化的情况下，单独把掩膜融化了，流出来回收掉，只留下plga和pva层叠的复合布”。

    类似于做千层酥的时候，一开始为了防止面饼层粘在一起，需要一层层抹酥油。但最后面层定型之后、进烤箱之前，却希望把中间的酥油层给去掉。（例子不太恰当，但也举不出更恰当的例子了）

    这么多弯弯绕绕的复杂科学思路混杂在一起，给没开上帝视角的普通地球人100个脑子，也难以单独把一系列问题想明白。

    要不是顾辙前世对化学沉积法钻研多年，也不至于如此举重若轻。

    ……

    顾辙把相关的“化学沉积掩膜”任务拆分、单独交给金灿和他带的那几个硕士研究生去做的时候，金灿看了这个实验设计，也是震惊得不行。
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